电报群机器人:荷兰限制部分型号光刻机出口中国市场影响几何

经济观察网 记者 沈怡然 荷兰政府要求ASML停止向中国提供DUV浸润式光刻机的消息得到了进一步证实，这一次出口管制的范围已经精确到设备型号。

3月8日，荷兰贸易和发展合作部长Liesje Schreinemacher发布了一份主题为“宣布即将对先进半导体制造设备采取的出口管制措施”的公告表示，鉴于技术的发展和地缘政治的背景，政府已经得出结论，有必要扩大现有的特定半导体制造设备的出口管制。

当日ASML以公告方式作出回应：由于这些即将出台的法规，ASML将需要申请出口许可证才能装运最先进的浸润式DUV系统。ASML还将对管制范围的推断进一步精确到两款DUV浸润式光刻机TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。

3月9日，记者就此向ASML进一步询问。对方回应称，基于公司的了解，出口限制将针对新设备和备件的发运。

一位熟悉半导体建厂的人士对记者称，从目前公开的信息看，管制范围是非常精确和具体的。通常来说，使用者（半导体制造厂）进入40/45nm节点后就需要使用浸润式DUV，其中1980Di的使用在这个阶段较为普遍。2000i和2050i两款设备则更为先进，是有可能帮助使用者生产先进芯片的，也就是14nm及以下的芯片。

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该人士称，从这两款设备的适用范围来看，不涉及目前中国绝大部分的制造厂，使用者集中在少数头部半导体制造厂，这些制造厂各自拥有不止一条产线，不同规模的产线所使用的机器数量不同，无法推断出每家公司具体的装机量。

就上述荷兰方面行为，3月9日，中国外交部发言人毛宁在例行记者会上表示，中方注意到有关报道，对荷方以行政手段干预限制中荷企业正常经贸往来的行为表示不满，已向荷方提出交涉。希望荷方秉持客观公正立场和市场原则，尊重契约精神，不滥用出口管制措施，维护国际产业链供应链稳定和自由开放的国际贸易秩序，维护中荷两国和双方企业共同利益。

浸润式DUV光刻机受限

光刻机按照光源波长可以划分为DUV和EUV系统。在DUV系统中，依照镜头和硅片之间的不同的介质可划分为干式DUV和浸润式DUV；从生产芯片的先进性来看， EUV >DUV浸润式>DUV干式。

ASML在公告中将限制的范围进一步精确：新的出口管制措施并不针对所有浸润式光刻系统，而只涉及所谓“最先进”的浸润式光刻系统。尽管尚未收到有关“最先进”的确切定义的信息，ASML将其解读为“关键的浸润式光刻系统”，即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。

根据官网，ASML推出的浸润式DUV有三款，依次是TWINSCAN NXT：1980Di、TWINSCAN NXT：2000i、TWINSCAN NXT：2050i。依照ASML所说，受限制的只有后两款2000i和2050i。根据官网，2000i和2050i都可用于高级逻辑芯片和 DRAM节点的大批量制造。